臺式真空等離子清洗機(Desktop Vacuum Plasma Cleaner)是用于科研實驗室和工業生產中的設備，用于清洗和表面處理各種材料。基于等離子體物理學原理進行工作的。其主要原理包括以下幾個方面：
 

　　1.真空環境：通過泵系統將工作室內部建立起高度真空的環境。真空環境有助于減少氣體分子的碰撞，提供清潔的處理環境。
 

　　2.等離子體產生：通過加入惰性氣體(如氬氣)并施加高頻電場，能夠產生等離子體。高頻電場激發氣體中的電子，使其獲得足夠的能量并與氣體分子碰撞，產生等離子體。
 

　　3.等離子體清洗：產生的等離子體在真空環境中與待處理的材料表面發生反應。等離子體中的電子、離子和自由基能夠與表面上的有機污染物、氧化物等進行化學反應，將其分解或轉化為易揮發的物質，從而實現清洗和表面處理的效果。

  

　　臺式真空等離子清洗機通常由以下幾個主要組成部分構成：
 

　　1.工作室：工作室是進行清洗和處理的空間，具有密封性能，能夠提供高真空環境。工作室內部通常采用不銹鋼材料，具有良好的耐腐蝕性和密封性。
 

　　2.泵系統：泵系統用于抽取工作室內部的氣體，建立高真空環境。常見的泵系統包括機械泵、分子泵和擴散泵等，能夠提供不同級別的真空度。
 

　　3.高頻電源：高頻電源用于產生高頻電場，激發氣體中的電子，從而產生等離子體。高頻電源通常具有調節功率和頻率的功能，以滿足不同處理需求。
 

　　4.氣體供給系統：氣體供給系統用于提供惰性氣體，如氬氣。氣體供給系統通常包括氣瓶、氣體流量控制器和氣體進氣口等。
 

　　5.控制系統：控制系統用于對各項參數進行監控和調節。通過控制系統，用戶可以設置清洗時間、功率、氣體流量等參數，實現對清洗過程的準確控制。
 

　　臺式真空等離子清洗機的工作流程通常包括以下幾個步驟：
 

　　1.準備工作：需要將待處理的樣品放置在工作室內，并確保工作室密封良好。同時，檢查泵系統和氣體供給系統的運行情況，確保其正常工作。
 

　　2.抽真空：啟動泵系統，開始抽取工作室內部的氣體，逐漸建立起高真空環境。根據需要，可以選擇不同級別的真空度。
 

　　3.氣體供給：打開氣體供給系統，將惰性氣體(如氬氣)引入工作室。通過氣體流量控制器，調節氣體的流量和壓力，以控制等離子體的產生和清洗效果。
 

　　4.清洗處理：啟動高頻電源，產生高頻電場，激發氣體中的電子，形成等離子體。等離子體與樣品表面發生反應，清洗和處理表面污染物。
 

　　5.停止清洗：根據需要，設定清洗時間，并在清洗結束后停止高頻電源和氣體供給。等離子體逐漸消失，工作室內部的氣體再次被抽取，恢復到大氣壓環境。
 

　　6.取出樣品：等離子清洗完成后，打開工作室，取出經過清洗和處理的樣品。進行后續的分析或應用。